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    Titel :

    Excimer Laser Annealing Process for Polysilicon TFT on Glass and Plastic Substrates


    Beteiligte:
    Liao, C. H. (Autor:in) / Wang, M. C. (Autor:in) / Shih, A. (Autor:in) / Lee, S.-C. (Autor:in) / InterOpto / IEEE

    Kongress:

    Pacific Rim conference; 4th, Lasers and electro-optics; CLEO/Pacific Rim 2001 ; 2001 ; Chiba, Japan



    Erscheinungsdatum :

    01.01.2001


    Format / Umfang :

    II-292-293


    Anmerkungen:

    Held with InterOpto2001. IEEE cat no 01TH8557



    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch






    Organic dye and excimer laser pattern silica glass

    British Library Online Contents | 1999


    Optimization of 200-W excimer laser for TFT annealing [2992-05]

    Pfeufer, V. / Voss, F. / Becker-De Mos, B. et al. | British Library Conference Proceedings | 1997