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    Titel :

    High-power excimer lasers for high-throughput poly-Si annealing [3888-55]


    Beteiligte:
    Fiebig, M. (Autor:in) / Osmanov, R. (Autor:in) / Stamm, U. (Autor:in) / Voss, F. (Autor:in) / Oesterlin, P. (Autor:in) / Kobayashi, N. (Autor:in) / Fechner, B. (Autor:in) / Uzuka, L. (Autor:in) / Chen, X. / Fujioka, T.

    Kongress:

    Conference, High-power lasers in manufacturing ; 1999 ; Osaka, Japan



    Erscheinungsdatum :

    01.01.2000


    Format / Umfang :

    8 pages




    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch




    Stereolithography with XeCl excimer laser/lamp [3888-29]

    Satoh, S. / Tanaka, T. / Ihara, S. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000


    Applications of high-power visible and UV lasers in manufacturing [3888-22]

    Knowles, M. R. H. / Bell, A. I. / Rutterford, G. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000


    Development of high-power CO~2 lasers and laser material processing [3888-67]

    Nath, A. K. / Choudhary, P. / Kumar, M. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000


    High-power diode laser technology and applications [3888-96]

    Bachmann, F. G. / SPIE | British Library Conference Proceedings | 2000


    Nr. 3888

    DataCite | 1920