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    Titel :

    Novel condenser for EUV lithography ring-field projection optics [3767-33]


    Beteiligte:

    Kongress:

    Conference, EUV, X-ray, and neutron optics and sources ; 1999 ; Denver, CO



    Erscheinungsdatum :

    01.01.1999


    Format / Umfang :

    13 pages




    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch




    Multilayer coated optics for an alpha-class extreme ultraviolet lithography system [3767-31]

    Montcalm, C. / Grabner, R. F. / Hudyma, R. M. et al. | British Library Conference Proceedings | 1999


    Nr. 3767

    DataCite | 1917


    High-uniformity collimator for x-ray proximity lithography [3767-06]

    Cash, W. C. / SPIE | British Library Conference Proceedings | 1999


    Characterization of multifiber polycapillary x-ray collimating optics [3767-12]

    Padiyar, S. D. / Wang, H. / Gubarev, M. V. et al. | British Library Conference Proceedings | 1999


    High-power source and illumination system for extreme ultraviolet lithography [3767-20]

    Kubiak, G. D. / Bernardez, L. J. / Krenz, K. D. et al. | British Library Conference Proceedings | 1999