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    Titel :

    Polyurethane resins as resist materials for excimer ablation lithography (EAL) [2992-19]


    Beteiligte:

    Kongress:

    Meeting, Excimer lasers, optics, and applications ; 1997 ; San Jose; CA



    Erscheinungsdatum :

    1997-01-01


    Format / Umfang :

    6 pages




    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch




    Excimer ablation lithography (EAL) for TFT-LCD (Invited Paper) [2992-16]

    Suzuki, K. / Matsuda, M. / Ogino, T. et al. | British Library Conference Proceedings | 1997


    Excimer laser machining of advanced materials [2992-17]

    Toenshoff, H. K. / Von Alvensleben, F. / Heekenjann, P. B. et al. | British Library Conference Proceedings | 1997


    Morphological surface change of elastomers by excimer laser ablation [2992-18]

    Yabe, A. / Niino, H. / Ono, S. et al. | British Library Conference Proceedings | 1997


    Excimer lasers for material ablation cross the 1.5 kHz mark (Invited Paper) [2992-01]

    Paetzel, R. / Stamm, U. / Bragin, I. et al. | British Library Conference Proceedings | 1997


    Optimization of 200-W excimer laser for TFT annealing [2992-05]

    Pfeufer, V. / Voss, F. / Becker-De Mos, B. et al. | British Library Conference Proceedings | 1997