Inelastic scattering of laser light found to indicate onset of gas-phase polymerization in plasma-enhanced chemical-vapor deposition (PECVD) of photoconductive amorphous hydrogenated silicon/germanium alloy (a-SiGe:H) film. In PECVD process, film deposited from radio-frequency glow-discharge plasma of silane (SiH4) and germane (GeH4) diluted with hydrogen. Gas-phase polymerization undesirable because it causes formation of particulates and defective films.


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    Titel :

    Detection Of Gas-Phase Polymerization in SiH4 And GeH4


    Beteiligte:

    Erschienen in:

    Erscheinungsdatum :

    1990-07-01



    Medientyp :

    Sonstige


    Format :

    Keine Angabe


    Sprache :

    Englisch


    Schlagwörter :