Improved ion source produces beam of ions at any kinetic energy from 1 to 1,000 eV, with little spread in energy or angle. Such ion beams useful in studies of surface properties of materials, surface etching, deposition, and development of plasma-diagnostic instrumentation. Tandemmirror ion source uses electrostatic and magnetic fields to keep electrons in ionization chamber and assure uniform output ion beam having low divergence in energy and angle.


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    Titel :

    Tandem-Mirror Ion Source


    Beteiligte:
    Biddle, A. (Autor:in) / Stone, N. (Autor:in) / Reasoner, D. (Autor:in) / Chisholm, W. (Autor:in) / Reynolds, J. (Autor:in)

    Erschienen in:

    Erscheinungsdatum :

    1986-09-01



    Medientyp :

    Sonstige


    Format :

    Keine Angabe


    Sprache :

    Englisch


    Schlagwörter :