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    Titel :

    X-Ray masks for very deep X-Ray lithography


    Beteiligte:
    Klein, J. (Autor:in) / Guckel, H. (Autor:in) / Siddons, D. P. (Autor:in) / Johnson, E. D. (Autor:in)

    Erschienen in:

    Erscheinungsdatum :

    1998-01-01


    Format / Umfang :

    4 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



    Aerial image analysis for defective masks in optical lithography

    Graf, T. / Erdmann, A. / Evanschitzky, P. et al. | IEEE | 2005


    Electroplating masks

    Bradshaw, R.R. | Engineering Index Backfile | 1943


    Diving masks

    LIAO LIXIANG | Europäisches Patentamt | 2021

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    Diving Masks

    LIAO LIXIANG | Europäisches Patentamt | 2020

    Freier Zugriff

    Advances in deep-UV lithography

    Olson, Setha G. / Sparkes, Christopher | SPIE | 1990