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    Titel :

    Excimer lithography for ULSI


    Beteiligte:
    Miyaji, A. (Autor:in) / Suzuki, K. (Autor:in) / Tanimoto, A. (Autor:in)

    Erschienen in:

    Erscheinungsdatum :

    1993-01-01


    Format / Umfang :

    297 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Unbekannt


    Klassifikation :

    DDC:    537.5



    Narrow band KrF excimer laser for mass production of ULSI ICs

    Mizoguchi, Hakaru / Wakabayashi, Osamu / Ito, Noritoshi et al. | SPIE | 1992


    Excimer Projection Lithography At 193-nm Wavelength

    Rothschild, M. / Ehrlich, D. J. | SPIE | 1988


    Effect of chromatic aberration in excimer laser lithography

    Yan, Pei-yang / Qian, Qi-De / Langston, Joseph C. et al. | SPIE | 1992



    Evaluation of resists using ArF excimer laser projection lithography

    Sasago, Masaru / Tani, Yoshiyuki / Endo, Masayuki et al. | SPIE | 1990